DE102007004844A1 - Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und Bauteil - Google Patents
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Abstract
Bei einem Verfahren zur Herstellung eines Bauteils (10) wird ein Bauelement (1) mit einem Material (2) umgeben und auf eine Oberfläche des Materials (2) wird eine fluorpolymerhaltige Verbindung (3) aufgebracht. Bei einem Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung (20) wird ein Formstück (22) aus einem Material hergestellt und auf eine Oberfläche des Formstücks (22) wird eine fluorpolymerhaltige Verbindung (23) durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und ein Bauteil.
- Bei der Montage integrierter Schaltkreise hat die halbleiterverarbeitende Industrie seit einiger Zeit von der Durchstecktechnologie auf die Oberflächenmontage umgestellt. Während bei der Durchstecktechnologie nur die Anschlussbeinchen erhitzt wurden, wird bei den oberflächenmontierten Bauteilen das gesamte Gehäuse erwärmt. Mit dieser neuen Technologie entstanden jedoch auch neue Fehlermechanismen, die durch das Zusammenwirken der aus der Umgebung aufgenommenen Feuchtigkeit und der Temperaturerhöhung verursacht werden.
- Die bei dem Verkapseln der integrierten Schaltkreise verwendeten Kunststoffe nehmen ein gewisses Maß an Feuchtigkeit aus der Umgebung auf (bis maximal 0,5 Gew.-%). Diese Feuchtigkeit lagert sich vorwiegend an den Grenzflächen zwischen der Vergussmasse und peripheren Strukturen der integrierten Schaltungen an. Aufgrund der raschen Temperaturerhöhung beim Lötvorgang verdampft diese Feuchtigkeit. Die dadurch verursachte Volumenvergrößerung kann zu Rissen im Kunststoff bzw. zu Delaminationen an internen Grenzflächen führen. Dieses Phänomen wird Popcorn-Effekt genannt. Der Grad der Schädigung der Bauteile durch den Popcorn-Effekt ist dabei direkt proportional zu der Feuchte-Konzentration, die über die Vergussmasse aus der Umgebung absorbiert wird. Die Feuchtigkeit verursacht darüber hinaus noch weitere Schädigungen wie Korrosion, Zersetzung und dergleichen.
- Zur Vermeidung der durch Feuchtigkeit verursachten Schädigungen können beispielsweise Verguss- oder Verkapselungsmassen mit hohem Füllstoffgehalt oder andere spezielle Verkapselungsmassen eingesetzt werden, bei welchen die absolute Feuchteaufnahme der Bauteile reduziert wird. Des Weiteren können die Bauteile trocken verpackt und angeliefert werden, wobei sie anschließend durch den Kunden innerhalb eines vorgegebenen Zeitraums auf die Platine gelötet werden müssen. Dieser Zeitraum wird durch den sogenannten Moisture-Sensitivity-Test (MST) ermittelt, durch den die Bauteile in feuchtsensitive Klassen eingeteilt werden. Die Klasseneinteilung enthält einen Hinweis auf den Zeitraum, in der das Bauteil nach dem Öffnen der Trockenverpackung oder nach dem Ausbacken verlötet werden muss, um die genannten Schädigungen wie Rissbildungen oder Delaminationen oder dergleichen zu vermeiden.
- Es besteht demnach ein Bedürfnis, das Problem der durch Feuchtigkeit hervorgerufenen Schädigungen der verkapselten Bauteile mit einem geringeren Aufwand lösen zu können.
- Vor diesem Hintergrund werden Verfahren gemäß den unabhängigen Patentansprüchen 1 und 10 sowie ein Bauteil gemäß dem unabhängigen Patentanspruch 19 sowie eine Vorrichtung gemäß dem unabhängigen Patentanspruche 28 angegeben. Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen angegeben.
- Gemäß einem Aspekt wird bei einem Verfahren zur Herstellung eines Bauteils ein Bauelement mit einem Material umgeben und auf eine Oberfläche des Materials wird eine fluorpolymerhaltige Verbindung aufgebracht.
- Gemäß einem weiteren Aspekt wird bei einem Verfahren zum Herstellen eines Bauteils ein Formstück aus einem Material hergestellt und auf eine Oberfläche des Formstücks eine fluorpolymerhaltige Verbindung durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht.
- Gemäß einem weiteren Aspekt umfasst ein Bauteil ein Bauelement, welches von einem Material umgeben ist, und eine fluor polymerhaltige Verbindung, welche auf einer Oberfläche des Materials aufgebracht ist.
- Gemäß einem weiteren Aspekt umfasst eine Vorrichtung ein Formstück aus einem Material und eine fluorpolymerhaltige Verbindung, welche auf einer Oberfläche des Formstücks durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht ist.
- Die Erfindung wird nachfolgend in beispielhafter Weise unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. In diesen zeigen:
-
1 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels für ein Bauteil; -
2 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels für eine Vorrichtung; -
3 eine schematische Darstellung eines Bauteils während eines Verfahrens zu seiner Herstellung; und -
4 eine schematische Darstellung eines weiteren Aus führungsbeispiels eines Bauteils nach Fertigstellung des Verfahrens. - Im Folgenden werden Bauteile, die Bauelemente umfassen, sowie Verfahren zur Herstellung der Bauteile beschrieben. Die Erfindung ist dabei unabhängig von der Art der Bauelemente. Bauelemente können jede Art von Elementen sein. Insbesondere können die Bauelemente elektrische, elektromechanische und/oder elektrooptische Bauelemente sein, z. B. integrierte Schaltungen, Sensoren, mikro-elektromechanische Bauelemente (MEMS) oder Laserdioden und dergleichen. Die Bauelemente können auf Halbleiterbasis hergestellt sein, also als Halbleiter-Bauelemente gegeben sein.
- Gemäß einer Ausgestaltung wird das Bauelement mit einem Material umgeben. Das Material kann beispielsweise ein Harz wie Epoxydharz oder dergleichen enthalten oder daraus bestehen. Das Material kann auch eine andere Zusammensetzung aufweisen. Das Material kann, allgemein gesagt, jede denkbare Zusammensetzung aufweisen, durch die eine Verguss- oder Verkapselungsmasse gebildet werden kann, mit der das Bauelement umgeben werden kann.
- Gemäß einer Ausgestaltung wird das Bauelement mit dem Material umgeben. Dabei kann vorgesehen sein, dass das Bauelement vollständig oder teilweise mit dem Material umgeben wird. Das Bauelement kann also entweder mit seiner gesamten Oberfläche oder nur auf einem Teil seiner Oberfläche von dem Material bedeckt bzw. von diesem umgeben sein.
- Gemäß einer Ausgestaltung wird ein Formstück aus einem Material hergestellt. Das Material kann beispielsweise ein Harz wie Epoxydharz oder dergleichen enthalten oder daraus bestehen. Das Material kann jedoch auch eine andere Zusammensetzung aufweisen.
- Gemäß einer Ausgestaltung wird die fluorpolymerhaltige Verbindung durch eine Gasphasen-Abscheidung auf eine Oberfläche des Materials aufgebracht. Eine Gasphasen-Abscheidung kann dabei jedes Verfahren umfassen, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung aus einer gasförmigen Phase auf die Oberfläche des Materials abgeschieden wird. Dazu zählen auch jegliche Arten von CVD-Gasabscheideverfahren (chemical vapor deposition). Insbesondere kann vorgesehen sein, dass in der gasförmigen Phase ein Plasma enthalten ist. Das Abscheidungsverfahren kann demnach auch durch ein plasmagestütztes CVD-Verfahren gegeben sein.
- Gemäß einer Ausgestaltung wird auf eine Oberfläche des Materials oder auf eine Oberfläche des Materials eines Formstücks eine fluorpolymerhaltige Verbindung aufgebracht. Fluorpoly merhaltige Verbindungen können dabei sämtliche denkbaren fluorhaltigen Polymerverbindungen sein. Es kann sich dabei also sowohl um fluorhaltige Polymere mit ausschließlich Kohlenstoff-Atomen in der Hauptkette als auch um solche fluorhaltigen Polymere mit Hetero-Atomen in der Hauptkette handeln.
- In der
1 ist ein Ausführungsbeispiel für ein Bauteil schematisch im Querschnitt dargestellt. Das Bauteil10 umfasst ein Bauelement1 , welches von einem Material2 umgeben ist. Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist das Bauelement1 nicht an allen Seiten von dem Material2 umgeben, da die untere Oberfläche des Bauelements1 nicht von dem Material2 bedeckt ist. Es kann beispielsweise vorgesehen sein, dass das Bauelement1 mit seiner unteren Oberfläche auf einem Substrat wie einem PCB-Board, einem Leadframe oder dergleichen montiert ist. - Das Bauelement
1 kann durch ein Halbleiter-Bauelement wie einen integrierten Schaltkreis oder dergleichen gegeben sein. Das Bauelement1 soll durch das Material2 umgeben und dadurch gegen äußere Einflüsse wie beispielsweise das Eindringen von Feuchtigkeit geschützt werden. Das Material2 kann eine Zusammensetzung auf Epoxydharz-Basis aufweisen. - Auf einer Oberfläche des Materials
2 ist eine fluorpolymerhaltige Verbindung3 aufgebracht, wie es in der1 schematisch angedeutet ist. Es kann dabei vorgesehen sein, dass die fluorpolymerhaltige Verbindung3 nur auf einen bestimmten Oberflächenabschnitt abgeschieden wird, wie ebenfalls in der1 angedeutet ist. Es kann jedoch die fluorpolymerhaltige Verbindung3 auch auf sämtlichen äußeren Oberflächen des Materials2 abgeschieden werden. Die aufgebrachte fluorpolymerhaltige Verbindung weist eine stark hydrophobe Wirkung auf, d. h. sie wirkt als effiziente Diffusionssperre gegen Wasserdampf. Durch die fluorpolymerhaltige Verbindung kann somit die Feuchteaufnahme des Bauelements bei Feuchtelagerung extrem reduziert werden und somit die Zuverlässigkeit des Bau elements1 auch unter Bedingungen hoher Feuchtigkeit während der Herstellung stark erhöht werden. Durch die fluorpolymerhaltige Verbindung kann auch die Lagerzeit des Bauelements erhöht werden und es können weniger aufwendige Verpackungs- und Transportbedingungen gewählt werden. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass durch die fluorpolymerhaltige Verbindung3 das Material2 vor organischen Lösungsmitteln geschützt werden kann. - Die fluorpolymerhaltige Verbindung
3 wird beispielsweise als eine Schicht auf die Oberfläche des Materials2 aufgebracht. Diese Schicht kann beispielsweise bei Raumtemperatur aufgebracht werden, sodass keine zusätzliche thermische Belastung für das Bauelement1 entsteht. Die fluorpolymerhaltige Verbindung3 kann beispielsweise durch Gasphasen-Abscheidung, insbesondere durch plasmagestützte Gasphasen-Abscheidung wie ein plasmagestütztes CVD-Verfahren aufgebracht werden. - In der
2 ist ein Ausführungsbeispiel für eine Vorrichtung im Querschnitt schematisch dargestellt. Die Vorrichtung20 umfasst ein Formstück22 aus einem Material und eine fluorpolymerhaltige Verbindung23 , welche auf einer Oberfläche des Formstücks22 durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht ist. Das Material des Formstücks22 kann ein Epoxydharz enthalten oder daraus bestehen. Die fluorpolymerhaltige Verbindung23 kann wie bei dem Bauteil10 der1 auf einem Abschnitt der Oberfläche des Formstücks22 oder auf der gesamten Oberfläche des Formstücks22 aufgebracht sein. - In den
3 und4 sind anhand eines weiteren Ausführungsbeispiels zwei Verfahrensstadien bei der Herstellung eines Bauteils anhand schematischer Darstellungen des Bauteils im Querschnitt dargestellt. In der4 ist das fertiggestellte Bauteil10 dargestellt, während in der3 eine Situation während des Aufbringens der fluorpolymerhaltigen Verbindung durch eine Gasphasen-Abscheidung gezeigt ist. - Ein Bauelement
1 wie beispielsweise ein Halbleiter-Bauelement1 ist auf einem Leadframe100 montiert. Das Bauelement1 wird mit einem Material2 umgeben, welches beispielsweise ein Epoxydharz sein kann. Unmittelbar nach der Verkapselung des Bauelements1 mit dem Material2 wird durch eine Gasphasen-Abscheidung eine dünne Schicht3 enthaltend eine fluorpolymerhaltige Verbindung auf die äußeren Oberflächen des Materials2 aufgebracht. Die dünne Schicht3 kann beispielsweise aus einem Fluorkohlenstoff- oder Fluorkohlenwasserstoff-Polymer bestehen. Die dünne Schicht3 zeichnet sich dadurch aus, dass sie sich stabil mit dem Material2 , im Falle eines Epoxydharzes also mit dem Polymer des Epoxydharzes, verbindet. Die fluorpolymerhaltige Verbindung zeichnet sich ferner dadurch aus, dass sie die Metalloberflächen des Leadframes100 und der durch Biegeschritte daraus gebildeten Anschlussbeinchen nur schwach angreift bzw. anätzt. Eventuell auf freiliegenden metallischen Oberflächen wie den Anschlussbeinchen oder der unverkapselten Rückseite der Chipinsel abgeschiedene polymere Schichten der fluorpolymerhaltigen Verbindung können aufgrund ihrer bekannt schlechten Haftung auf Metallen in anschließenden Prozessen zur Beseitigung von dünnen Verkapselungsmassen-Rückständen („de-flashing") oder dem Aufbringen der Lotbeschichtung („solder plating") inklusive der vorherigen Oberflächen-Aktivierung, leicht beseitigt werden. - In dem Ausführungsbeispiel der
3 ist gezeigt, wie das mit dem Material2 umgebene Bauelement1 mit einem CF4/CHF3-Gasgemisch in einer Plasmakammer (nicht dargestellt) behandelt wird. Dadurch bildet sich durch Oberflächenreaktionen zwischen den erzeugten Gasradikalen und der Oberfläche des Materials2 zum einen sowie zwischen den erzeugten reaktiven Molekülfragmenten untereinander (Plasma-Polymerisation) eine stabile Fluorpolymer-Schicht3 auf der Oberfläche des Materials2 aus. Diese Schicht3 weist mit einer Wasserdampf-Durchlässigkeit von 0,03 g/m2 pro 24 Stunden (bei 20°C und 85% relativer Luftfeuchtigkeit) eine etwa 1000-fach niedrigere Durchlässigkeit gegenüber Wasserdampf auf als ungefüllte Epoxydharze, welche ca. 30 g/m2 pro 24 Stunden (bei 20°C und 85% relativer Luftfeuchtigkeit) aufweisen. Bei hochgefüllten Epoxydharz-Pressmassen kann dieser Wert jedoch um etwa eine Größenordnung niedriger liegen. - Vorzugsweise beträgt bei dem Ausführungsbeispiel der
3 der Anteil des CF4 im Gasgemisch nicht mehr als 45%, damit es zur Polymerisation des Gasgemisches kommt. Noch bevorzugter ist es, wenn der Anteil des CF4 im CF4/CHF3-Gasgemisch unterhalb von 20% liegt, um gute Abscheideraten (> 20 nm/min) zu realisieren. Die Prozessdrücke sollten bei Gasflussraten von einigen 10 ccm vorzugsweise nicht unter 0,1 Torr betragen, während die Leistungswerte der zur Plasmaerzeugung eingesetzten Hochfrequenzgeneratoren vorzugsweise zwischen 100 und 1000 Watt liegen sollten. Als Alternative zu CHF3 in dem CF4/CHF3-Gasgemische können auch andere Fluorkohlenwasserstoffgase wie z. B. C2H2F4 oder CH2F2 eingesetzt werden. - Das Material
2 kann wie bereits erwähnt ein Epoxydharz sein oder auf Epoxydharz-Basis hergestellt sein. Die Aufbringung der fluorpolymerhaltigen Verbindung3 auf der Oberfläche des Materials2 erlaubt auch den Einsatz von relativ kostengünstigen Epoxydharzen, die relativ ungünstige Eigenschaften hinsichtlich der Feuchtigkeitsaufnahme haben können. Diese sind z. B. Epoxydharz-Systeme auf Orthokresolnovolak-Basis (OCN-Epoxyde) und/oder relativ gering mit Quarzmehl gefüllte Epoxydharz-Verkapselungsmassen (< 80 Gew.-% SiO2-Füllstoff). Es ist des Weiteren auch nicht mehr erforderlich, dem Material2 spezielle Additive zur Absorption von Feuchte zuzuführen bzw. es können weniger stark feuchtresistente und damit zumeist kostengünstigere Additive verwendet werden.
Claims (34)
- Verfahren zur Herstellung eines Bauteils: ein Bauelement wird mit einem Material umgeben, und auf eine Oberfläche des Materials wird eine fluorpolymerhaltige Verbindung aufgebracht.
- Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung bei Raumtemperatur aufgebracht wird.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht wird.
- Verfahren nach Anspruch 3, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung durch eine plasmagestützte Gasphasen-Abscheidung aufgebracht wird.
- Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung aufgebracht wird, indem das von dem Material umgebene Bauelement mit einem CF4/CHF3-Gasgemisch behandelt wird.
- Verfahren nach Anspruch 5, bei welchem der Anteil des CF4 im Gasgemisch kleiner als 45%, insbesondere kleiner als 40%, insbesondere kleiner als 35%, insbesondere kleiner als 30%, insbesondere kleiner als 25%, insbesondere kleiner als 20% beträgt.
- Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, bei welchem anstelle von CHF3 ein anderes Fluorkohlenwasserstoffgas, insbesondere C2H2F4 oder CH2F2, eingesetzt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung in Form einer Schicht aufgebracht wird.
- Verfahren nach Anspruch 8, bei welchem die Schicht vor dem Aufbringen auf das Material in selbständig handhabbarer Form, insbesondere in Form einer Folie, auf eine Oberfläche des Materials aufgelegt und durch äußere Einwirkung, insbesondere durch Druck, Temperatur, Laserstrahlung, oder Ultraschall-Strahlung, mit dem Material verbunden wird.
- Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung: ein Formstück wird aus einem Material hergestellt, und auf eine Oberfläche des Formstücks wird eine fluorpolymerhaltige Verbindung durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht.
- Verfahren nach Anspruch 10, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung bei Raumtemperatur aufgebracht wird.
- Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung durch eine plasmagestützte Gasphasen-Abscheidung aufgebracht wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung aufgebracht wird, indem das Formstück mit einem CF4/CHF3-Gasgemisch behandelt wird.
- Verfahren nach Anspruch 13, bei welchem der Anteil des CF4 im Gasgemisch kleiner als 45%, insbesondere kleiner als 40%, insbesondere kleiner als 35%, insbesondere kleiner als 30%, insbesondere kleiner als 25%, insbesondere kleiner als 20% beträgt.
- Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, bei welchem anstelle von CHF3 ein anderes Fluorkohlenwasserstoffgas, insbesondere C2H2F4 oder CH2F2, eingesetzt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 15, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung in Form einer Schicht aufgebracht wird.
- Verfahren nach Anspruch 16, bei welchem die Schicht vor dem Aufbringen auf das Material in selbständig handhabbarer Form, insbesondere in Form einer Folie, auf eine Oberfläche des Materials aufgelegt und durch äußere Einwirkung, insbesondere durch Druck, Temperatur, Laserstrahlung, oder Ultraschall-Strahlung, mit dem Material verbunden wird.
- Bauteil, mit einem Bauelement (
1 ), welches von einem Material (2 ) umgeben ist, und einer fluorpolymerhaltigen Verbindung (3 ), welche auf einer Oberfläche des Materials (2 ) aufgebracht ist. - Bauteil nach Anspruch 18, bei welchem das Material (
2 ) ein Harz, insbesondere ein Epoxydharz, enthält oder aus diesem besteht. - Bauteil nach Anspruch 18 oder 19, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung (
3 ) durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht ist. - Bauteil nach Anspruch 20, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung (
3 ) durch eine plasmagestützte Gasphasen-Abscheidung aufgebracht ist. - Bauteil nach Anspruch 20 oder 21, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung (
3 ) dadurch aufgebracht ist, dass das von dem Material (2 ) umgebene Bauelement (1 ) mit einem CF9/CHF3-Gasgemisch behandelt wird. - Bauteil nach Anspruch 22, bei welchem der Anteil des CF4 im Gasgemisch kleiner als 45%, insbesondere kleiner als 40%, insbesondere kleiner als 35%, insbesonde re kleiner als 30%, insbesondere kleiner als 25%, insbesondere kleiner als 20% beträgt.
- Bauteil nach Anspruch 22 oder 23, bei welchem anstelle von CHF3 ein anderes Fluorkohlenwasserstoffgas, insbesondere C2H2F4 oder CH2F2, eingesetzt wird.
- Bauteil nach einem der Ansprüche 18 bis 24, bei welchem die fluorpolymerhaltige Verbindung (
3 ) in Form einer Schicht aufgebracht ist. - Bauteil nach Anspruch 25, bei welchem die Schicht dadurch hergestellt ist, dass sie in selbständig handhabbarer Form, insbesondere in Form einer Folie, bereitgestellt, auf eine Oberfläche des Materials (
2 ) aufgelegt und durch äußere Einwirkung, insbesondere durch Druck, Temperatur, Laserstrahlung, oder Ultraschall-Strahlung, mit dem Material verbunden wird. - Vorrichtung umfassend: ein Formstück (
22 ) aus einem Material, und eine auf einer Oberfläche des Formstücks (22 ) aufgebrachte fluorpolymerhaltige Verbindung (23 ), welche durch eine Gasphasen-Abscheidung aufgebracht ist. - Vorrichtung nach Anspruch 27, bei welcher das Material ein Harz, insbesondere ein Epoxydharz, enthält oder aus diesem besteht.
- Vorrichtung nach Anspruch 27 oder 28, bei welcher die fluorpolymerhaltige Verbindung (
23 ) durch eine plasmagestützte Gasphasen-Abscheidung aufgebracht ist. - Vorrichtung nach einem der Ansprüche 27 bis 29, bei welcher die fluorpolymerhaltige Verbindung (
23 ) dadurch aufgebracht ist, dass das Formstück mit einem CF4/CHF3-Gasgemisch behandelt wird. - Vorrichtung nach Anspruch 30, bei welcher der Anteil des CF4 im Gasgemisch kleiner als 45%, insbesondere kleiner als 40%, insbesondere kleiner als 35%, insbesondere kleiner als 30%, insbesondere kleiner als 25%, insbesondere kleiner als 20% beträgt.
- Vorrichtung nach Anspruch 30 oder 31, bei welcher anstelle von CHF3 ein anderes Fluorkohlenwasserstoffgas, insbesondere C2H2F4 oder CH2F2, eingesetzt wird.
- Vorrichtung nach einem der Ansprüche 27 bis 31, bei welcher die fluorpolymerhaltige Verbindung (
23 ) in Form einer Schicht aufgebracht ist. - Vorrichtung nach Anspruch 33, bei welcher die Schicht dadurch hergestellt ist, dass sie in selbständig handhabbarer Form, insbesondere in Form einer Folie, bereitgestellt, auf eine Oberfläche des Materials aufgelegt und durch äußere Einwirkung, insbesondere durch Druck, Temperatur, Laserstrahlung, oder Ultraschall-Strahlung, mit dem Material verbunden wird.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007004844A DE102007004844B4 (de) | 2007-01-31 | 2007-01-31 | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und Bauteil |
US11/943,259 US7811860B2 (en) | 2007-01-31 | 2007-11-20 | Method for producing a device and device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007004844A DE102007004844B4 (de) | 2007-01-31 | 2007-01-31 | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und Bauteil |
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---|---|
DE102007004844A1 true DE102007004844A1 (de) | 2008-08-14 |
DE102007004844B4 DE102007004844B4 (de) | 2011-05-05 |
Family
ID=39597374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102007004844A Expired - Fee Related DE102007004844B4 (de) | 2007-01-31 | 2007-01-31 | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und Bauteil |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7811860B2 (de) |
DE (1) | DE102007004844B4 (de) |
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