DE4218657A1 - Verfahren zum bilden eines wasserabweisenden metalloxidfilms, der auf ein glassubstrat aufgetragen ist - Google Patents
Verfahren zum bilden eines wasserabweisenden metalloxidfilms, der auf ein glassubstrat aufgetragen istInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 27
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 23
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 23
- 239000005871 repellent Substances 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 19
- 230000002940 repellent Effects 0.000 title description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 61
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000012702 metal oxide precursor Substances 0.000 claims description 12
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 claims description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- -1 alkyl silane compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 7
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BTVWZWFKMIUSGS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,2-diol Chemical compound CC(C)(O)CO BTVWZWFKMIUSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 claims 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 71
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 47
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 101100346656 Drosophila melanogaster strat gene Proteins 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;zirconium Chemical compound [Zr].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000237074 Centris Species 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 230000009193 crawling Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006855 networking Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate Chemical compound CC(C)[O-] OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/229—Non-specific enumeration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bil
den eines wasserabweisenden Metalloxidfilms, der auf ein
Glassubstrat aufgetragen ist, durch ein Sol-Gelverfahren,
das eine Lösung eines Metallalkoxids oder -acetylaceto
nats verwendet.
Das Überziehen der Oberfläche einer Glasplatte mit einem
harten und abriebfesten Film eines Metalloxids wie etwa
Siliciumoxid ist bekannt. Der Metalloxidfilm kann z. B.
durch ein Sol-Gelverfahren unter Verwendung einer Lösung
einer organischen Metallverbindung wie eines Metallalk
oxids oder -acetylacetonats gebildet werden. Wenn die
filmüberzogene Glasplatte z. B. als Fahrzeugfensterglas
verwendet wird, ist es erwünscht, daß der Film wasserab
weisend ist.
JP-A (Patent) 64-68 477 offenbart ein Verfahren zum Bilden
eines wasserabweisenden Metalloxidfilms, der auf einem
Stahlblech aufgetragen ist. In diesem Verfahren werden
zuerst mindestens 0,005 Gew.-% von mindestens einer
organischen Metallverbindung, ausgewählt aus der Gruppe
bestehend aus einfachen Alkoxiden, die keine andere orga
nische Gruppe als Alkoxylgruppe haben, Monomethylalk
oxiden und Acetylacetonaten von Al, Zr, Ti, Si, W, Ce, Sn
und Y, und Fluoralkylsilan in einer Menge von 0,005-0,30
Mol-% der organischen Metallverbindung in einer Al
kohollösung gelöst. Anschließend wird das Blech mit der
Lösung überzogen. Anschließend wird das überzogene Blech
auf eine Temperatur nicht niedriger als 100°C erhitzt,
wodurch ein Metalloxidfilm gebildet wird, der wasserab
weisend ist. Dieses Verfahren hat jedoch den folgenden
Nachteil:
Wenn dieses Verfahren angewandt wird, um einen Metall
oxidfilm zu bilden, der auf einer Glasplatte aufgetragen
ist, bleibt die wasserabweisende Eigenschaft dieses Films
nicht für längere Zeit im Freien erhalten, aufgrund der
Auswaschung von Alkalimetallionen aus der Glasplatte.
JP-A (Patent) 1-1 26 244 offenbart ein Verfahren zum Bilden
eines wasserabweisenden Films, der auf einer Glasplatte
aufgetragen ist. In diesem Verfahren, welches eine Tauch
beschichtung verwendet, wird zunächst die Glasplatte in
eine Lösung, die aus Polydimethylsiloxan und einem Koh
lenwasserstoff, der bei Raumtemperatur als Flüssigkeit
vorliegt, besteht, eingetaucht. Anschließend wird die
Glasplatte herausgezogen und auf eine Temperatur im Be
reich von 250-300°C 10-30 min. erhitzt, wodurch ein
wasserabweisender Film auf der Glasplatte gebildet wird.
Dieses Verfahren hat jedoch den folgenden Nachteil:
Die wasserabweisende Eigenschaft dieses Films wird im
Freien in relativ kurzer Zeit beeinträchtigt aufgrund
einer unzureichenden Dicke des Films.
Es ist deshalb eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung
ein verbessertes Verfahren zum Bilden eines wasserabwei
senden Metalloxidfilms, der auf ein Glassubstrat aufge
tragen ist, bereitzustellen, wobei dieses Verfahren es
möglich macht, daß der Film eine dauerhafte wasserabwei
sende Eigenschaft im Freien hat.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum
Bilden des oben genannten wasserabweisenden Metalloxid
films zur Verfügung gestellt, welches die Schritte um
faßt:
- i) Das Vermischen einer ersten Lösung aus mindestens ei nem Metalloxidvorläufer, ausgewählt aus der Gruppe beste hend aus Metallalkoxiden und Metallacetylacetonaten, mit einem organischen Lösungsmittel und Wasser, welches in einer Menge im Bereich von 50-400 Mol-% des mindestens einen Metalloxidvorläufers vorhanden ist, um dadurch ein erstes Sol durch Hydrolyse und Polykondensation des min destens einen Metalloxidvorläufers zu bilden;
- ii) Das Zugeben einer organischen Verbindung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Fluoralkylsilanverbindungen in einer Menge von mehr als 0,30 Mol-% und weniger als 3,0 Mol-% des mindestens einen Metalloxidvorläufers und Alkylsilanverbindungen in einer Menge von mehr als 4,0 Mol-% und weniger als 20 Mol-% des mindestens einen Me talloxidvorläufers, zu dem ersten Sol, wodurch ein zwei tes Sol gebildet wird, das die eine organische Verbindung enthält, wobei die Konzentration des mindestens einen Me talloxidvorläufers in dem zweiten Sol im Bereich von 0,005 bis 3,0 Mol-% eingestellt wird;
- iii) Das Aufbringen des zweiten Sols auf das Glassub strat, um dadurch einen Gelfilm auf dem Glassubstrat zu bilden; und
- iv) Das Erhitzen des Gelfilms auf eine Temperatur nicht niedriger als 100°C.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum
Bilden eines wasserabweisenden Metalloxidfilms, der auf
einem Glassubstrat aufgetragen ist, bereitgestellt. In
diesem Verfahren wird zunächst ein Metallalkoxid mit ei
nem organischen Lösungsmittel gemischt. Dann werden Was
ser und ein Katalysator der gemischten Lösung zugegeben.
Anschließend wird die Lösung auf eine erste vorbestimmte
Temperatur erwärmt, um die Hydrolyse und die Polykonden
sation des Alkoxids zu beschleunigen, wodurch ein Sol ge
bildet wird, das als Bindemittel (vehicle) des wasserab
weisenden Mittels, durch die Bildung von einer Si-O-Si-
Bindung dienen soll. Anschließend wird das wasserabwei
sende Mittel wie etwa Fluoralkylsilan oder Alkylsilan dem
Bindemittel zugegeben, wodurch eine Überzugslösung gebil
det wird. Anschließend wird ein Glassubstrat mit der
Überzugslösung durch ein geeignetes Überzugsverfahren
überzogen. Anschließend verwandelt es sich während eines
Trocknungsverfahrens des Solfilms, der auf dem Glassub
strat aufgezogen ist, in einen Gelfilm. Anschließend wird
der Gelfilm auf dem Glassubstrat auf eine zweite vorbe
stimmte Temperatur erwärmt. Durch dieses Erwärmen wandelt
sich der Gelfilm in einen dichten und harten Metalloxid
film durch eine sog. Dehydrokondensation, d. h. eine Kon
densation mit Eliminierung von Wasser, und durch Vernet
zung um. Dieser Metalloxidfilm hat wasserabweisende Ei
genschaften aufgrund der Verwendung von Fluoralkylsilan
oder Alkylsilan.
Die allgemeine Formel des Metallalkoxids ist M(OR)n, wo
rin "M" und "R" ein Metall und eine Alkylgruppe bedeuten.
Als dieses Metall ist es vorzuziehen, Si, Ti, Al, Zr, W,
Ce, Sn oder ähnliche zu verwenden, was gewöhnlich den
Oxidfilm durchsichtig macht. Ein Alkalimetall und ein
Erdalkalimetall sind jedoch als dieses Metall nicht ge
eignet. Ein Metallacetylacetonat kann das Metallalkoxid
ersetzen. Das Metallalkoxid kann entweder ein einfaches
Alkoxid sein, das keine organische Gruppe außer der Alk
oxylgruppe hat, wie etwa Methoxid, Ethoxid, Isopropoxid
oder Butoxid, oder ein Alkylalkoxid, das mindestens eine
Alkylgruppe neben der Alkoxylgruppe hat, wie etwa ein Mo
nomethylalkoxid oder ein Monoethylalkoxid. Als das Mono
methylalkoxid wird gewöhnlich Monomethylmethoxid, Mono
methylethoxid, Monomethylisopropoxid oder Monomethyl-n-
butoxid verwendet. Als Metallacetylacetonat wird gewöhn
lich Zirkoniumacetylacetonat, Titanacetylacetonat oder
Yttriumacetylacetonat verwendet. Wahlweise kann ein Film
aus einem gemischten Oxid aus zwei Metallarten gebildet
werden durch das Verwenden einer gemischten Lösung eines
Alkoxids oder Acetylacetonats des einen Metalls und eines
Alkoxids oder Acetylacetonats des anderen Metalls.
In der Überzugslösung wird die Konzentration des Metall
alkoxids so eingestellt, daß sie im Bereich von 0,005-3,0
Mol/Liter liegt. Wenn die Konzentration oberhalb von
3,0 Mol/Liter ist, wird die Lebensdauer der Überzugslö
sung, d. h. der Zeitraum in dem sie verwendet werden kann,
verkürzt. Deshalb kann sie nicht für lange Zeit gelagert
werden. Ferner wird die Lösung zu viskos und folglich
wird der Oxidfilm zu dick. Unter diesen Umständen neigt
der Oxidfilm dazu, Risse zu haben oder von dem Glassub
strat abzublättern. Wenn die Konzentration unter 0,005
Mol/Liter ist wird der Oxidfilm zu dünn. Folglich ist es
nötig das Glassubstrat mehrere Male mit der Überzugslö
sung zu überziehen. Dies erhöht die Produktionskosten.
Wahlweise kann ein Ligand mit dem Metallalkoxid vermischt
werden um die Hydrolyserate des Metallalkoxids einzustel
len. Als Ligand wird bevorzugt, ein Diketon wie Acetyl
aceton, einen Alkoholether wie etwa Ethylcellusolve zu
verwenden. Noch mehr wird bevorzugt, ein Glykol wie etwa
Ethylenglykol, Hexylenglykol, 2,3-Butandiol, 1,2-Propan
diol oder 2-Methyl-1,2-propandiol zu verwenden.
Es wird bevorzugt, zu dem Bindemittel Fluoralkylsilan zu
zugeben, in einer Menge von mehr als 0,30 Mol-% und weni
ger als 3,0 Mol-% des Metallalkoxids. Wenn die Menge
nicht größer als 0,30 Mol-% beträgt, wird der Metalloxid
film nicht mit einer ausreichenden wasserabstoßenden Ei
genschaft ausgestattet. Wenn die Menge nicht weniger als
3,0 Mol-% beträgt, hat der Metalloxidfilm eine weiße Far
be.
Es wird bevorzugt, Alkylsilan in einer Menge von mehr als
4,0 Mol-% und weniger als 20 Mol-% des Alkoxids dem Bin
demittel zuzugeben. Wenn die Menge nicht mehr als 4,0
Mol-% beträgt wird der Metalloxidfilm nicht mit einer
ausreichenden wasserabstoßenden Eigenschaft ausgestattet.
Wenn die Menge nicht weniger als 20 Mol-% beträgt, neigt
die Überzugslösung dazu, sich beim Überzugsverfahren zu
sammenzuziehen (crawling). Unter diesen Umständen ist es
schwierig, einen einheitlichen Oxidfilm auf dem Glassub
strat zu bilden.
Als Fluoralkylsilan werden gewöhnlich z. B.
CF₃CH₂CH₂Si(Me)₃, CF₃CH₂CH₂SiCl₃, CF₃(CF₂)₅CH₂CH₂SiCl₃,
CF₃(CF₂)₅CH₂CH₂Si(OMe)₃, CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂SiCl₃,
CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂Si(OMe)₃, CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂SiMeCl₂ oder
CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂SiMe(OMe)₂,
verwendet.
Als Alkylsilan werden gewöhnlich z. B.
SiC₆H₁₅Cl,
SiC₃H₈Cl₂, SiC₄H₉Cl₃, SiC₄H₁₀Cl₂, SiC₁₂H₁₀Cl₂, SiC₁₆H₂₀O₂,
SiC₁₄H₁₆O₂, SiC₉H₂₂O₃, SiC₇H₁₈O₃, SiC₄H₁₂O₃, SiC₁₃H₁₃Cl,
SiC₇H₈Cl₂, SiC₂₀H₄₃Cl, SiC₁₉H₄₀Cl, SiC₂₁H₄₆O₂,
SiC₁₈H₃₇Cl₃, SiC₂₄H₅₂O₃, SiC₂₁H₄₆O₃, SiC₆H₁₅Cl₃,
SiC₁₂H₂₀O₃, SiC₉H₁₄O₃, SiC₁₈H₁₅Cl oder SiC₉H₂₁Cl,
verwendet.
Als organisches Lösungsmittel, welches dazu dient, das
Metallalkoxid und das wasserabweisende Mittel einheitlich
darin zu dispergieren, wird es bevorzugt, einen niederen
Alkohol wie etwa Methanol, Ethanol, Propanol oder Butanol
zu verwenden. Es kann jedoch auch ein aromatischer Koh
lenwasserstoff wie etwa Toluol oder Xylol verwendet wer
den.
In dieser Erfindung wird Wasser zugesetzt um das Metall
alkoxid zu hydrolysieren. Die Menge an Wasser wird so
eingestellt, daß sie im Bereich von 50-400 Mol-% des
Metallalkoxids liegt. Wenn die Menge mehr als 400 Mol-%
beträgt, wird die Lebensdauer der Überzugslösung ver
kürzt, wodurch es nicht möglich ist, daß sie über einen
längeren Zeitraum gelagert werden kann. Wenn die Menge
weniger als 50 Mol-% beträgt neigt die Überzugslösung da
zu, sich auf dem Glassubstrat zusammenzuziehen oder der
Oxidfilm neigt dazu, von dem Glassubstrat abzublättern.
Als Katalysator, der dazu dient, die Hydrolyse des Me
tallalkoxids zu beschleunigen, wird gewöhnlich eine Säure
wie etwa Salzsäure, Fluorwasserstoffsäure, Salpetersäure,
Essigsäure oder Ameisensäure verwendet.
Als Überzugsverfahren wird gewöhnlich ein Tauchüberzugs
verfahren, Rotationsüberzugsverfahren (Spin coating) oder
ein Sprühüberzugsverfahren verwendet. Die Dicke des Films
auf dem Glassubstrat in getrocknetem Zustand wird so ein
gestellt, daß sie mehr als 0,03 µm und insbesondere von
0,05-0,5 µm beträgt.
Das Erwärmen des überzogenen Glassubstrats wird bei einer
Temperatur nicht niedriger als 100°C durchgeführt. Wenn
die Temperatur niedriger als 100°C ist, werden die Dehy
drokondensation und Vernetzung nicht ausreichen. Folglich
ist die Haltbarkeit des Metalloxidfilms beeinträchtigt.
Im Falle, daß Fluoralkylsilan verwendet wird, wird das
mit dem Film überzogene Glassubstrat vorzugsweise auf ei
ne Temperatur erwärmt, die nicht niedriger als 100°C ist
und niedriger als die Zersetzungstemperatur des Fluor
alkylsilans ist und insbesondere auf eine Temperatur von
300-420°C. Im Falle, daß Alkylsilan verwendet wird,
wird das überzogene Glassubstrat vorzugsweise auf eine
Temperatur erwärmt, die nicht niedriger als 100°C und
niedriger als der Siedepunkt von Alkylsilan ist und ins
besondere auf eine Temperatur von 150-170°C.
Natronkalkglasplatten wurden als Glassubstrat verwendet.
Die Glasplatten wurden 1 Tag in eine 5%-Lösung eines
Glassubstratdetergens, Hikari-ACE, welches ein Handelsna
me ist und von Hikari Kogyo Co. Ltd. hergestellt wird,
eingetaucht. Dann wurden die Glasplatten zuerst mit Lei
tungswasser, und dann mit reinem Wasser gewaschen. An
schließend wurden die Glasplatten mit Ethanol gewaschen,
um sie zu trocknen.
In diesem Beispiel wurden drei verschiedene Überzugslö
sungen A, B und C hergestellt, wodurch drei verschiedene
Metalloxidfilme A, B und C, die auf den Glasplatten auf
gezogen waren, gebildet wurden. Die Überzugslösung A wur
de gemäß dem folgenden Verfahren hergestellt.
Zuerst wurden 50 ml Tetraethoxysilan als Metallalkoxid
mit 50 ml Ethanol vermischt. Dann wurden 4,3 ml Wasser
und 5,7 ml 61%-ige Salpetersäurelösung der Gemischlösung
zugegeben. Anschließend wurde die Lösung in einem Wasser
bad auf eine Temperatur von 80°C während 2 h erwärmt, wo
durch das Tetraethoxysilan hydrolysiert wurde, um ein
Bindemittel zu bilden. Nach dem Abkühlen des Bindemit
tels wurden 0,63 g CF3(CF2)7CH2CH2Si(OMe)3 als Fluor
alkylsilan diesem zugesetzt, wodurch die Überzugslösung A
gebildet wurde.
Die Überzugslösung B wurde gemäß dem folgenden Verfahren
hergestellt:
Zunächst wurde ein Bindemittel auf die gleiche Weise
wie für die Überzugslösung A hergestellt. Dann wurden
0,24 g CF3CH2CH2Si(OMe)3 als Fluoralkylsilan dem Bin
demittel zugesetzt, wodurch die Überzugslösung B gebil
det wurde.
Die Überzugslösung C wurde gemäß dem folgenden Verfahren
hergestellt:
Zunächst wurde ein Bindemittel auf die gleiche Weise
hergestellt wie die Überzugslösung A. Dann wurden 0,52 g
CF3(CF2)5CH2CH2Si(OMe)3 als Fluoralkylsilan dem Binde
mittel zugesetzt, wodurch die Überzugslösung C gebil
det wurde.
Die Mengen an Fluoralkylsilan und Wasser relativ zu dem
Alkoxid und die Konzentration des Alkoxids in der Über
zugslösung, ausgedrückt in Mol-%, mit Bezug auf die Über
zugslösung A, B und C, werden jeweils in Tabelle 1 ge
zeigt.
Die Glasplatten wurden jeweils mit den so hergestellten
Überzugslösungen A, B und C durch das folgende Rotations
Überzugsverfahren überzogen:
Zunächst wurde die Glasplatte auf eine rotierende Unter
lage gebracht. Dann wurde jede Überzugslösung in einer
Menge von 2-3 ml auf die Glasplatte getropft, während
die Glasplatte bei 3000 U/min rotieren gelassen wurde.
Die Rotation wurde 30 sec. nach dem Auftropfen beibehal
ten, wodurch ein Solfilm auf der Glasplatte durch Zentri
fugalkraft gebildet wurde. Dann wurde der Film 30 min.
bei Raumtemperatur getrocknet, wodurch ein Gelfilm gebil
det wurde. Dann wurde die filmüberzogene Glasplatte in
einen Ofen bei 380°C 30 min lang mit einer Temperaturan
stiegsrate von 8°C/min. erwärmt, wodurch ein durchsichti
ger Metalloxidfilm auf der Glasplatte gebildet wurde.
Dieses Beispiel ist eine Abwandlung von Beispiel 1.
Alkylsilan wurde als wasserabweisendes Mittel anstelle
von Fluoralkylsilan in Beispiel 1 verwendet.
Sodalaugenglasplatten wurden auf die gleiche Weise gewa
schen und getrocknet wie die von Beispiel 1.
In diesem Beispiel wurden 3 verschiedene Überzugslösungen
D, E und F hergestellt, wodurch sie 3 verschiedene Me
talloxidfilme D, E und F bildeten. Die Überzugslösung D
wurde gemäß dem folgenden Verfahren hergestellt:
Zunächst wurden 12,5 ml Tetraethoxysilan und 8 ml
Hexylenglykol in 50 ml Ethanol gelöst. Die Lösung wurde
in einem Wasserbad auf eine Temperatur von 80°C während
1,5 h erwärmt. Dann wurde die Temperatur auf 40°C ge
senkt. Dann wurden 1 ml Wasser und 1,5 ml 61%ige Sal
petersäurelösung der Lösung zugegeben, die Temperatur
wurde dann auf 80°C erhöht und 1,5 h lang gehalten,
wodurch das Tetraethoxysilan hydrolysiert wurde, um ein
Bindemittel zu bilden. Dann wurden 0,58 g SiC9H22O3
als Alkylsilan dem Bindemittel zugegeben, wodurch
die Überzugslösung D gebildet wurde.
Die Überzugslösung E wurde gemäß dem folgenden Verfahren
hergestellt:
Ein Bindemittel wurde auf die gleiche Weise wie das der
Überzugslösung D hergestellt. Dann wurde 1,0 g SiC21H46O2
als Alkylsilan dem Bindemittel zugegeben, wodurch die
Überzugslösung E gebildet wurde.
Die Überzugslösung F wurde gemäß dem folgenden Verfahren
hergestellt:
Ein Bindemittel wurde auf die gleiche Weise wie das der
Überzugslösung D hergestellt. Dann wurden 1,16 g
SiC24H52O3 als Alkylsilan dem Bindemittel zugegeben, wo
durch die Überzugslösung F gebildet wurde.
Die Mengen an Alkylsilan und Wasser relativ zu dem Alk
oxid, und die Konzentration des Alkoxids in der Überzugs
lösung, ausgedrückt in Mol-%, bezogen auf die Überzugslö
sungen D, E und F werden jeweils in Tabelle 1 gezeigt.
Die Glasplatten wurden jeweils mit den Überzugslösungen
D, E und F durch das gleiche Rotationsüberzugs-Verfahren
wie das von Beispiel 1 überzogen. Dann wurde die film
überzogene Glasplatte in einem Ofen bei einer Temperatur
von 150°C während 30 min mit einer Temperaturanstiegsrate
von 8°C/min erwärmt, wodurch ein durchsichtiger Metall
oxidfilm auf der Glasplatte gebildet wurde.
Die folgenden Vergleichsbeispiele 1 bis 6 sind Abwandlun
gen von Beispiel 1.
Dieses Vergleichsbeispiel ist eine Abwandlung von Bei
spiel 1 bezüglich der Zusammensetzung der Überzugslösung,
des Überzugsverfahrens und der Temperatur, auf die er
wärmt wird. In diesem Vergleichsbeispiel wurden das Me
tallalkoxid, Wasser und der Katalysator weggelassen. In
diesem Vergleichsbeispiel wurden 3 verschiedene Überzugs
lösungen G, H und I hergestellt, wodurch 3 verschiedene
Filme G, H und I gebildet wurden.
Die Überzugslösung G, H oder I wurde in einer solchen
Weise hergestellt, daß 3 Gew-% des Fluoralkylsilans in
der Überzugslösung A, B oder C von Beispiel 1 in Ethanol
gelöst wurden.
Glasplatten, die auf die gleiche Weise wie die von Bei
spiel 1 hergestellt wurden, wurden jeweils mit den Über
zugslösungen G, H und I durch die folgende Tauchüberzugs
methode überzogen:
Zunächst wurde die Glasplatte in die Überzugslösung G, H
oder I 30 min lang eingetaucht. Dann wurde die Glasplat
te hochgezogen und in einem Ofen bei einer Temperatur von
120°C 30 min lang erwärmt, wodurch ein Film auf der Glas
platte gebildet wurde.
Dieses Vergleichsbeispiel ist eine Abwandlung von Bei
spiel 1 bezüglich der Konzentration des Fluoralkylsilans.
Zunächst wurden 4,43 g CF3(CF2)7CH2CH2Si(OMe)3 als Fluor
alkylsilan einem Bindemittel zugesetzt, welches auf die
gleiche Weise wie das von Beispiel 1 hergestellt wurde,
wodurch eine Überzugslösung hergestellt wurde. Dann wurde
die Glasplatte mit der Überzugslösung durch das gleiche
Rotationsüberzugs-Verfahren von Beispiel 1 überzogen. Die
filmüberzogene Glasplatte wurde bei Raumtemperatur etwa
30 min lang getrocknet. Unter diesen Bedingungen war der
aufgezogene Film unerwünschterweise weiß gefärbt.
Das Verfahren zum Herstellen der Überzugslösung A von
Beispiel 1 wurde wiederholt, außer daß 2 ml Ethanol mit
50 ml Tetraethoxysilan vermischt wurden. Dann wurde das
Rotationsüberzugs- und das Trocknungsverfahren von Bei
spiel 1 wiederholt. Unter diesen Umständen wurde ein
durchsichtiger Film, der auf der Glasplatte aufgezogen
war, erhalten. Dann wurde die Glasplatte bei 350°C 30 min
lang mit einer Temperaturanstiegsrate von 8°C/min er
wärmt. Unter diesen Umständen blätterte der Film von der
Glasplatte ab.
Das Verfahren zum Herstellen der Überzugslösung A von
Beispiel 1 wurde wiederholt, außer daß 9,0 ml Wasser und
16,7 ml 61%ige Salpetersäurelösung der Mischungslösung
aus 50 ml Tetraethoxysilan und 50 ml Ethanol zugesetzt
wurden. Dann wurde das Rotationsüberzugs- und das Trock
nungsverfahren aus Beispiel 1 wiederholt. Unter diesen
Umständen wurde ein durchsichtiger Film, der auf der
Glasplatte aufgezogen war, erhalten. Dann wurde das Er
wärmungsverfahren aus Vergleichsbeispiel 3 wiederholt.
Unter diesen Umständen blätterte der Film von der Glas
platte ab.
Das Verfahren zum Herstellen der Überzugslösung A von
Beispiel 1 wurde wiederholt, außer daß 0,25 g
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OMe)3 als Fluoralkylsilan dem Binde
mittel zugesetzt wurden. Dann wurde das Rotationsüber
zugs- und das Trocknungsverfahren von Beispiel 1 wieder
holt. Unter diesen Umständen wurde ein durchsichtiger
Film, der auf der Glasplatte aufgezogen war, erhalten.
Dann wurde das Erwärmungsverfahren aus Vergleichsbeispiel
3 wiederholt, wodurch ein Metalloxidfilm, der auf der
Glasplatte aufgezogen war, gebildet wurde.
Das Verfahren zum Herstellen der Überzugslösung A von
Beispiel 1 wurde wiederholt, außer daß nur die Salpeter
säurelösung in einer Menge von 2,24 ml zu der Mischungs
lösung anstelle der Zugabe von Wasser und der Salpeter
säurelösung zugegeben wurde. Dann wurde das Rotations
überzugs- und das Trocknungsverfahren von Beispiel 1
wiederholt. Unter diesen Umständen wurde ein durchsichti
ger Film, der auf der Glasplatte aufgezogen war, erhal
ten. Dann wurde das Erwärmungsverfahren von Vergleichs
beispiel 3 wiederholt. Unter diesen Umständen blätterte
der Film von der Glasplatte ab.
Bezüglich der Überzugslösung der Vergleichsbeispiele 2
bis 6, sind die Mengen des Fluoralkylsilans und Wassers
relativ zu dem Alkoxid, und die Konzentration des Alk
oxids in jeder Überzugslösung, ausgedrückt in Mol-%, je
weils in Tabelle 1 gezeigt.
Jeder der Metalloxidfilme der Beispiele 1 und 2 und der
Vergleichsbeispiele 1 und 5, in denen die durchsichtigen
Filme, die auf den Glasplatten gebildet wurden, erhalten
wurden, wurde einem Außenbewitterungstest während 6
Monaten unterzogen. Der Berührungswinkel von Wassertrop
fen vor und nach dem Bewitterungstest wurde bestimmt, um
die Haltbarkeit der wasserabweisenden Eigenschaften der
Filme zu bewerten. Die Ergebnisse werden in Tabelle 2 ge
zeigt. Es wird deutlich, daß die Metalloxidfilme der Bei
spiele 1 und 2 bezüglich der Haltbarkeit der wasserab
weisenden Eigenschaften im Vergleich zu denen der Ver
gleichsbeispiele 1 und 5 überlegen sind.
Claims (17)
1. Verfahren zum Bilden eines wasserabweisenden Metall
oxidfilms auf einem Glassubstrat, welches die Schritte
umfaßt:
Das Mischen einer ersten Lösung von mindestens einem Me talloxidvorläufer, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Metallalkoxiden und Metallacetylacetonaten, mit einem organischen Lösungsmittel und Wasser, welches in einer Menge im Bereich von 50-400 Mol% des mindestens einen Metalloxidvorläufers vorhanden ist, um dadurch ein er stes Sol durch Hydrolyse und Polykondensation des minde stens einen Metalloxidvorläufers zu bilden;
Das Zugeben einer organischen Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Fluoralkylsilanverbindungen in einer Menge von mehr als 0,30 mol-% und weniger als 3,0 Mol-% des mindestens einen Metalloxidvorläufers und Alkyl silanverbindungen in einer Menge von mehr als 4,0 Mol-% und weniger als 20 Mol-% des mindestens einen Metalloxid vorläufers, zu dem ersten Sol, wodurch ein zweites Sol gebildet wird, das die eine organische Verbindung ent hält, wobei die Konzentration des mindestens einen Metalloxidvorläufers in dem zweiten Sol so eingestellt wird, daß sie im Bereich von 0,005 bis 3,0 Mol-% liegt;
das Aufbringen des zweiten Sols auf ein Glassubstrat, um dadurch einen Gelfilm auf dem Glassubstrat zu bilden; und
das Erwärmen des Gelfilms auf eine Temperatur nicht nied riger als 100°C.
Das Mischen einer ersten Lösung von mindestens einem Me talloxidvorläufer, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Metallalkoxiden und Metallacetylacetonaten, mit einem organischen Lösungsmittel und Wasser, welches in einer Menge im Bereich von 50-400 Mol% des mindestens einen Metalloxidvorläufers vorhanden ist, um dadurch ein er stes Sol durch Hydrolyse und Polykondensation des minde stens einen Metalloxidvorläufers zu bilden;
Das Zugeben einer organischen Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Fluoralkylsilanverbindungen in einer Menge von mehr als 0,30 mol-% und weniger als 3,0 Mol-% des mindestens einen Metalloxidvorläufers und Alkyl silanverbindungen in einer Menge von mehr als 4,0 Mol-% und weniger als 20 Mol-% des mindestens einen Metalloxid vorläufers, zu dem ersten Sol, wodurch ein zweites Sol gebildet wird, das die eine organische Verbindung ent hält, wobei die Konzentration des mindestens einen Metalloxidvorläufers in dem zweiten Sol so eingestellt wird, daß sie im Bereich von 0,005 bis 3,0 Mol-% liegt;
das Aufbringen des zweiten Sols auf ein Glassubstrat, um dadurch einen Gelfilm auf dem Glassubstrat zu bilden; und
das Erwärmen des Gelfilms auf eine Temperatur nicht nied riger als 100°C.
2. Verfahren nach Anspruch 1, worin der mindestens eine
Metalloxidvorläufer ausgewählt wird aus der Gruppe, be
stehend aus Alkoxiden von Si, Ti, Al, Zr, W, Ce und Sn
und Acetylacetonaten von Si, Ti, Al, Zr, W, Ce und Sn.
3. Verfahren nach Anspruch 2, worin die erste Lösung ein
Siliciumalkoxid umfaßt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, worin ein Katalysator, der
dazu dient, die Geschwindigkeit der Hydrolyse und Poly
kondensation des mindestens einen Metalloxidvorläufers zu
erhöhen, der ersten Lösung zugegeben wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, worin der Katalysator eine
Säureverbindung umfaßt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, worin die Säureverbindung
mindestens eine, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus
Salzsäure, Flußsäure, Salpetersäure, Essigsaure und Amei
sensäure, ist.
7. Verfahren nach Anspruch 6, worin die Säureverbindung
Salpetersäure umfaßt.
8. Verfahren nach Anspruch 1, worin jedes der Metallalk
oxide eine Alkylgruppe umfaßt, die ausgewählt wird aus
der Gruppe, bestehend aus Methyl-, Ethyl-, Isopropyl-,
Propyl- und Butylgruppen.
9. Verfahren nach Anspruch 1, worin ein Ligand zum Ein
stellen der Geschwindigkeit der Hydrolyse des mindestens
einen Metallalkoxidvorläufers der ersten Lösung zugegeben
wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, worin der Ligand ausge
wählt wird aus der Gruppe, bestehend aus einem Diketon,
einem Alkoholether und einem Glykol.
11. Verfahren nach Anspruch 10, worin der Glykol ausge
wählt wird aus der Gruppe, bestehend aus Hexylenglykol,
2,3-Butandiol, 1,2-Propandiol und 2-Methyl-1,2-propan
diol.
12. Verfahren nach Anspruch 1, worin die mindestens eine
organische Verbindung das Fluoralkylsilan umfaßt, das
ausgewählt wird aus der Gruppe, bestehend aus
CF₃CH₂CH₂Si(Me)₃, CF₃CH₂CH₂SiCl₃, CF₃(CF₂)₅CH₂CH₂SiCl₃,
CF₃(CF₂)₅CH₂CH₂Si(OMe)₃, CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂SiCl₃,
CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂Si(OMe)₃, CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂SiMeCl₂ und
CF₃(CF₂)₇CH₂CH₂SiMe(OMe)₂.
13. Verfahren nach Anspruch 1, worin die mindestens eine
organische Verbindung das Alkylsilan umfaßt, welches aus
gewählt wird aus der Gruppe, bestehend aus
SiC₆H₁₅Cl, SiC₃H₈Cl₂, SiC₄H₉Cl₃, SiC₄H₁₀Cl₂, SiC₁₂H₁₀Cl₂,
SiC₁₆H₂₀O₂, SiC₁₄H₁₆O₂, SiC₉H₂₂O₃, SiC₇H₁₈O₃, SiC₄H₁₂O₃,
SiC₁₃H₁₃Cl, SiC₇H₈Cl₂, SiC₂₀H₄₃Cl, SiC₁₉H₄₀Cl, SiC₂₁H₄₆O₂,
SiC₁₈H₃₇Cl₃, SiC₂₄H₅₂O₃, SiC₂₁H₄₆O₃, SiC₆H₁₅Cl₃,
SiC₁₂H₂₀O₃, SiC₉H₁₄O₃, SiC₁₈H₁₅Cl oder SiC₉H₂₁Cl.
14. Verfahren nach Anspruch 1, worin das organische Lö
sungsmittel ausgewählt wird aus der Gruppe, bestehend aus
einem niederen Alkohol und einem aromatischen Kohlenwas
serstoff.
15. Verfahren nach Anspruch 14, worin das organische
Lösungsmittel Ethanol umfaßt.
16. Verfahren nach Anspruch 1, worin der Gelfilm, der das
Fluoralkylsilan enthält, auf eine Temperatur im Bereich
von 300-420°C erwärmt wird.
17. Verfahren nach Anspruch 1, worin der Gelfilm, der
das Alkylsilan enthält, auf eine Temperatur im Bereich
von 150-170°C erwärmt wird.
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Date | Code | Title | Description |
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